南軒（天津）科技有限公司成立于2009年，坐落于天津寶坻中關村科技城，是一家致力于研發、生產、銷售及服務為一體的濕法制程設備企業。

公司現有廠房占地面積約12000㎡，其中辦公區面積1200㎡，潔凈間面積600㎡，研發區面積500㎡；公司自成立至今，擁有研發專利30余項、先后獲得了國高新技術企業、天津市雛鷹企業、天津市瞪羚企業等榮譽稱號，并且已經通過ISO9001質量體系認證。公司配備獨立專業的研發團隊、日本清洗專家和一批經驗豐富的專業技術人才，能夠為客戶提供全套清洗設備解決方案。

公司主要經營產品有4-12吋槽式濕法制程設備以及化學自動供液系統；應用范圍涵蓋了元素半導體（Si Ge）、化合物半導體（GaAs InP GaP）、寬禁帶半導體（SiC GaN）及其他泛半導體行業所需的濕法清洗工藝需求，包含光刻膠去除、金屬腐蝕、氧化物刻蝕、爐前清洗以及顆粒物去除等。

公司始終秉承“務實求真、拼搏進取”的企業精神，持續深耕于半導體行業，以匠人精神做好產品與服務，以優質的產品與服務去贏得越來越多客戶與市場的認同。